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三星制定“三阶段 HBM 路线图”:迈向真正的 3D ZHBM,将 DRAM 直接堆叠在计算芯片上

近日,在 Hot Chips 技术大会上,三星 DRAM 设计团队的 Sangwook Han 发表演讲,正式披露三星 HBM 演进的三阶段路线图。这一路线图的终点,是一种名为 zHBM 的全新架构——将 DRAM 直接垂直堆叠在 GPU、TPU 等计算芯片之上,彻底取消 2.5D 中介层(interposer)。

据 wccftech 8 月 23 日报道,三星方面表示,相较于标准 HBM4E,zHBM 方案宣称可实现 70% 的功耗降低、230% 的 DRAM 带宽提升,以及每个 DRAM 模组节省 100W 功耗,同时为 GPU 释放 8.3% 的额外功率空间。

HBM 是什么,瓶颈在哪里

HBM,即高带宽内存,是目前 AI 训练和推理系统中最关键的存储组件之一。它由两类芯片构成:

C-die(核心芯片):包含 DRAM 存储单元,可垂直堆叠最多 16 层

B-die(基础芯片 /Base Die):位于整个堆叠结构底部,负责处理各类 DRAM 控制功能,并通过 PHY(物理接口层)与 GPU 等计算芯片通信

两者之间通过 TSV(Through-Silicon Via,硅通孔)连接——这是一种穿透芯片的垂直导电通道。

据 Wccftech 报道,当前 HBM4 每个堆叠的带宽已超过 3TB/s,HBM4E 进一步推进至 4TB/s 区间,HBM5 则在 HBM4 基础上将带宽翻倍,容量超过 60GB。

然而,带宽的持续扩展正面临两大硬约束:TSV 数量与间距的物理极限,以及Base Die 内 PHY 接口的 I/O 数量与速度上限。与此同时,B-die 与计算芯片(xPU SoC)之间的制程代差正在逐代收窄,这既是挑战,也为三星的路线图提供了切入口。

第一阶段:为计算芯片 " 腾地方 "

三星路线图的第一阶段,核心目标是从 xPU(计算芯片)那里 " 抢回 " 硅面积

三星已将 D1c 与 4nm 逻辑工艺应用于 HBM4 的 Base Die(B-die),主要目的是降低功耗、缩减有效面积。这是 DRAM 与先进逻辑工艺真正融合的起点。

具体措施包括:

用 D2D 接口替换传统 HBM PHY,缩短信道长度,直接改善能效,同时为 XPU 释放宝贵硅片空间

将内存控制器从 XPU 卸载至 cHBM 的 B-die,预计可为 XPU 释放 5% 至 10% 的面积,对应 10% 至 20% 的性能提升

引入基于 SRAM 的细粒度修复方案(Near-MC SRAM-Based Cell Repair),利用 B-die 上的闲置空间部署 SRAM 修复资源

面积缩减带来的副作用是热点问题。对此,三星已推出 Heat Path Block(HPB)技术,构建于 cHBM4 方案之上,可将峰值温度降低逾 35%,覆盖 50% 的 PHY 区域。

第二阶段:B-die 开始 " 长出 " 计算能力

第二阶段的重点从 " 腾空间 " 转向 " 加功能 ",三星将其定义为功能扩展阶段

扩展内存容量。 随着 AI 大模型的上下文窗口(context window)急剧扩大,KV 缓存(Key-Value Cache,模型推理时用于存储中间状态的内存区域)的需求呈指数级增长。三星计划在 Base Die 的闲置硅面积上集成内存扩展控制器与 PHY,通过外接 LPDDR 或 HBM 等方案扩充系统可用内存容量。

集成处理单元(PE)。 三星还提出在 Base Die 上集成部分计算处理单元(Processing Elements),将部分原本需要在 xPU 上完成的计算卸载至内存侧,从而降低 D2D 带宽需求、减少功耗与热负担。这一形态被称为 AHBM(Advanced HBM,进阶高带宽内存)。

强化可靠性与测试能力。 第二阶段还包括在 Base Die 上集成先进的 RAS(Reliability, Availability, Serviceability,可靠性、可用性与可维护性)传感器与实时遥测功能,以及片上自测试(ATIP)能力,提升良率与测试覆盖率。

第三阶段:zHBM ——消灭中介层,DRAM 直接压在计算芯片上

第三阶段是整个路线图的终极形态:zHBM

当前主流 AI 系统采用 2.5D 封装架构,GPU 与 HBM 并排放置在同一块中介层(interposer)上,通过横向互连传输数据。zHBM 的思路是将这一结构 " 竖起来 " ——把 DRAM 堆叠直接压在 xPU 芯片之上,形成真正的 3D 垂直集成。

三星描述的 zHBM 关键特性包括:

分布式 I/O:最小化 HBM 栈内数据传输距离

3D 结构:消除传统 2D 接口,大幅提升系统效率

I/O 功耗目标约 0.5 pJ/bit:通过移除 SerDes 等冗余模块实现

带宽提升超 2.3 倍,系统热余量达 100W

三星演示的方案为四栈 zHBM 叠加在一颗 XPU 之上。

为实现上述目标,三星正在研发两项关键封装技术:WoW(Wafer on Wafer)HCB(Hybrid Cube Bonding),以实现超高 I/O 密度,并最终构建统一的 SoC-DRAM 协同设计体系。

路线图背后的核心逻辑

三星此次演讲的核心叙事,是将 HBM 的 Base Die 从一个 " 被动的数据中转站 " 重新定位为 " 具备主动计算能力的智能伙伴 "。

三个阶段的演进逻辑清晰:先通过制程升级压缩面积、释放 xPU 空间(第一阶段);再利用释放出的空间集成更多功能、扩展容量与计算能力(第二阶段);最终通过 3D 垂直集成彻底重构系统架构,在功耗、带宽与热管理三个维度同步突破(第三阶段)。

三星在演讲总结中表示:" 通过掌握先进封装与统一 SoC-DRAM 协同设计,我们将突破制约 AI 系统的功耗、面积与容量瓶颈,为未来数年更高效率、更高性能、更强可扩展性铺平道路。"

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