8 月 20 日晚，拓荆科技（SH688072，股价 671.26 元，市值 1951.21 亿元）发布 2026 年半年度报告。报告期内，公司实现营业收入 29.13 亿元，同比增长 49.06%；实现归母净利润 13.43 亿元，同比增长 1324.10%；实现扣非后净利润 3.67 亿元，同比增长 861.92%。
公司同时披露 2026 年半年度利润分配预案，拟向全体股东每 10 股派发现金红利 3.50 元（含税），合计拟派发现金红利约 1.01 亿元，占报告期归属于上市公司股东净利润的比例为 7.54%。
上半年营收净利大幅增长
报告期内，拓荆科技营业收入同比增长 49.06%，主要得益于公司先进产品批量通过客户验证，业务规模和收入快速增长。其中，PECVD 系列设备持续保持竞争优势，应用于先进存储、先进逻辑等领域的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM 系列工艺等产品已进入规模化量产阶段，OPN、SiB 及 PECVD Bianca 等产品不断扩大量产规模并实现收入转化；ALD 系列设备在先进存储领域量产规模快速攀升，多台 PE-ALD SiO2、SiCO 等工艺设备在客户端完成重复订单验证并实现收入转化。
归母净利润同比增长 1324.10%，主要系营业收入大幅增长、毛利率同比提升约 9 个百分点，叠加交易性金融资产产生的公允价值变动收益较上年同期增加约 9.60 亿元所致。
报告期内，公司基本每股收益为 4.77 元，加权平均净资产收益率为 18.11%，研发投入占营业收入比例为 14.52%。
值得注意的是，公司经营活动产生的现金流量净额为 1.15 亿元，同比减少 92.63%，主要系销售回款阶段性降低、采购付款及支付的各项税费增加、职工薪酬增加等因素所致。
深耕薄膜沉积设备
年内股价翻倍
拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备。
公司目前已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD 等薄膜沉积设备产品，以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合、芯片对晶圆熔融键合等三维集成设备产品，广泛应用于先进存储、先进 / 成熟逻辑、先进封装、功率器件、Micro-OLED、硅光技术、图像传感器等领域。
二级市场上，今年以来拓荆科技股价表现强势。年初至今累计上涨 103.62%。
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记者 |黄胜
编辑|段炼 文多 杜恒峰
校对 |梁露月
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